GC Initial LiSi Press

GC Initial LiSi Press — это высокопрочный слиток дисиликата лития с запатентованной технологией HDM (микронизация высокой плотности), которая равномерно диспергирует микрокристаллы — а не традиционные кристаллы большего размера — для заполнения всей стеклянной матрицы, что приводит к превосходным физическим свойствам и эстетике. . Он имеет прочность на двухосный изгиб >500 МПа и практически не имеет реакционного слоя при отделении. Материал износостойкий, стабильный после многократных обжигов и оптимизирован для использования с облицовочной керамикой GC Initial® LiSi и GC Initial® IQ Lustre Pastes NF.