Средство изолирующее Picosep
- Микропленка изолирует гипс от воска и керамики.
- Тончайшая пленка сохраняет свой эффект в течение многих дней, не возникает необходимости в дополнительном
Назначение
Воск моделировочный окклюзионный (далее – воск окклюзионный) применяется для моделирования окончательной формы восковой модели, а также окклюзионных контактов.
Описание
Воск окклюзионный специально разработан для работы с открытым
Назначение
Воск моделировочный окклюзионный (далее – воск окклюзионный) применяется для моделирования окончательной формы восковой модели, а также окклюзионных контактов.
Описание
Воск окклюзионный специально разработан для работы с открытым пламенем и электрошпателем. Легко наносится на модель, формируя необходимые рельефы. Хорошо скоблится, образуя сухую стружку. Имеет низкую температурную усадку и, как следствие, прогнозируемый результат моделирования. Благодаря повышенному поверхностному натяжению воска, существенно облегчается процесс формирования окклюзионных контактов.
Благодаря наличию опаковых оттенков, хорошо различим даже в малых слоях нанесения.
Температура плавления (72-78) °С
Рабочая температура электрошпателя (115-120) °С
Способ применения
Разогреть шпатель до рабочей температуры. Набрать необходимое количество воска и произвести необходимое моделирование. Излишки воска соскоблить шпателем или скальпелем.
Форма выпуска
Выпускается в банках или пирамидках или конусах по 65 г или 70 г или 75 г или 80 г или 85 г или 90 г.
Опаковые цвета: бежевый, серый, мятный.
Особые артикулы
Назначение
Воск погружной применяется для моделирования вкладок и восковых колпачков методом погружения.
Описание
Воск погружной обладает минимальной тепловой усадкой, высокой прочностью и эластичностью
Назначение
Воск моделировочный цервикальный эластичный и воск моделировочный цервикальный твердый (далее – воск цервикальный) применяется для моделирования пришеечных краев коронок, точных частей и вкладок.
Описание
Воск
Воск базисный и воск базисный модифицированный (далее – воск базисный)
Назначение
Воск базисный
в пластинах - применяется для моделирования базисов съемных протезов, прикусных шаблонов, а также индивидуальных ложек и ложек-базисов
в палочках и подковах - применяется для регистрации прикуса или определения окклюзионных